【IEDM】丰田工大:量子纳米结构开拓元器件的未来
| DATE | 2007/12/13 |
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【日经BP社报道】
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| 主题演讲前的开幕式。 |
备受期待的一维沟道FET
量子纳米结构是在纳米线(一维)及量子点(零维)等低维结构中封入电子及空穴的构造。如果在晶体管沟道中导入该结构,与沟道具有二维扩展的晶体管相比,可实现高载流子迁移度及低功耗。
量子纳米结构原来多被视为“物理学者的研究对象”,近来将其应用于元器件领域的讨论已正式展开。在以IEDM为首的半导体技术国际学会上,具备量子纳米结构的元器件以及CMOS领域相关应用的提案接连不断。采用一维量子纳米结构的碳纳米管FET以及硅纳米线FET就是其中的代表,美国英特尔及韩国三星电子等著名LSI厂商已开始展开大力开发。
量子纳米结构的研究以诺贝尔物理学奖获奖者江崎玲於奈以及榊裕之等组成的研究小组为中心,从上世纪70年代起在日本展开了先驱性研究。不过,“对产业界的应用展开讨论当时还太早”(榊裕之)。近来,由于现有的MOS FET的微细化已开始显露出极限,因此产业界对量子纳米结构的期待迅速升温。(记者:大下 淳一)
■日文原文
【IEDM】「“量子ナノ構造”がデバイスの未来を拓く」,基調講演で豊田工大の榊氏【追加あり】
NEC开发出量子bit可变结合器 “量子bit寿命不会缩短”
【IEDM】硅纳米线FET论文大量增加
用硅材料提高太阳能电池效率 NREL利用硅纳米结晶确认MEG现象
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