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【ISSCC】利用自动化技术实现Cell从65nm版向45nm版的过渡

DATE	2008/02/13

　　【日经BP社报道】 IBM公司和索尼计算机娱乐美国公司在2008年2月3日于美国旧金山开幕的半导体技术国际学会“2008年国际固态电路会议（ISSCC 2008）”上，公布了45nm版Cell的设计情况（演讲编号4.3）。利用IBM开发的布局辅助工具“MASH”以及同为自主开发的、面向DFM的设计检查工具等，使Cell设计从65nm版向45nm版过渡的多数作业实现了自动化。

　　首先，双稳态多谐振荡器（Flip-Flop）等基本单元利用MASH面向45nm SOI制造技术进行了半自动缩小。另外，有一些违反设计规则的部分利用MASH进行了修正，而其他的违反设计规则的部分由设计人员以手工方式进行了修正。通过这些措施将65nm版原为174.6mm²的芯片面积削减了34％，缩小到了115.46mm²。

　　此外，在功耗方面，通过(1)将动态电路尽可能地换成CMOS静态电路，(2)减少对阈值电压低的高速晶体管的利用（PMOS从原来的2.4％减少到了0.5％，NMOS从原来的2.9％减少到0.7％）等手段，使功耗比65nm版降低了约40％。（记者：进藤智则）

■日文原文
【ISSCC】45nm版のCell，65nm版から自動化技術を駆使して開発

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