【ESEC】日立超LSI系统展出低容量高密度的SRAM存储器IP
| DATE | 2008/05/20 |
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【日经BP社报道】
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| SRAM存储器IP的展板。数据由日立LSI提供。 |
该公司表示,在存取时间、耗电量、密度方面,该产品均比市场上的竞争产品更加优异。其中,低bit容量时的密度之高,尤为其一大卖点。“在市场上的竞争产品中,随着容量减小,外围电路对存储器阵列的比例会上升。无论在何种容量下,本公司产品的密度均较高,越是小容量产品,本公司产品的优势就越大”(该公司)。
日立超LSI系统的SRAM存储器IP,迄今为止经历了多个工艺阶段,已在日立制作所设备部门的ASIC、以及瑞萨科技的SoC中得到应用。今后,该公司打算打破仅被日立及瑞萨使用的局限,去占领更大的市场。例如,力争“被列入台湾TSMC的IP内核清单”。上述产品虽然此前曾被嵌入到TSMC以130nm及180nm工艺制造的芯片中,但尚未成为“TSMC公认的”存储器IP。
在此次展会上,日立超LSI系统展出的是1端口SRAM的90nm工艺对应产品等。通过90nm低耗电工艺进行封装时,最大周期频率为300MHz。可生成单位模块为128~128kbit的SRAM存储器。(记者:小岛 郁太郎)
■日文原文
【ESEC】低容量でも高密度なSRAMメモリーIP,日立超LSIが展示
【VLSI】熔丝实现阵列状高密度配置 SRAM设计技术又前进一步
【VLSI】克服误差的SRAM电路技术纷纷亮相
【ISSCC】TI试制工作电压+0.4V的SRAM 目标是减小漏电电流
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